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真空鍍膜的優點

1.膜層沉積速率快，生產效率高。

 2.膜層性能穩定、安全性高。

 3.薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。

 4.在真空條件下制備薄膜，環境清潔，薄膜不易受到汙染，因此可獲得致密性好、

純度高和塗層均勻的薄膜。

 5.真空鍍膜既不產生廢液，也無環境汙染。